（首尔28日中央电）据韩媒报导，因为光州双年展批准使用“台湾馆”名称，中国驻韩大使戴兵周四（27日）赴光州拜会市长闵炯培表达不满，并下令原定参与光州双年展中国馆的艺术家周五开始撤出。

原本正在光州河正雄美术馆准备特别馆作品展出的中国艺术家及展览工作人员等，应中国大使馆方面要求，自周五起开始撤出。随著此次中国馆艺术家撤出，围绕光州双年展的外交争议预料短期内仍将持续。

根据韩联社报导，中国驻韩大使戴兵周三访问光州，在中国驻光州总领事顾景奇的陪同下与市长闵炯培会面，对第16届光州双年展登场前发生的“台湾馆”名称变更争议表达遗憾。

这场会面原本是配合闵炯培就任市长所进行的礼貌性拜会，但据悉，会谈过程中也提及台湾馆名称变更问题。据报导，闵炯培回应表示，政治判断不应影响艺术领域。

中国驻韩使馆周五发布相关新闻稿，仅称双方还就具体合作领域及“共同关心的问题”交换了意见，并未提及光州双年展。

光州双年展将在9月5日登场，之前因迳自将台湾馆改称“NTMoFA”（“国立台湾美术馆”英文简称）引发争议，此事也引起韩国艺术界关注，许多光州艺术人站出来声援台湾，最终光州双年展决定恢复台湾馆名称。