在近期举行的上海中国国际工业博览会上，独角兽企业蓝图半导体（Landau Flint）首次公开展示了其研发的极紫外光（EUV）光源原型机。数据显示，该原型机功率为15瓦，并实现了长达100小时的连续稳定运行。作为极紫外光刻技术的关键核心部件之一，极紫外光源的运行稳定性历来是行业研发的难点，其连续运行能力得到了半导体业界的广泛关注。

据蓝图半导体官方透露，该技术的量产版本预计将在未来五年内推出。目前该15瓦原型机的功率仍较低，距离大规模量产芯片的高功率商业化应用仍有一定差距，短期内可能更适用于掩模版检测等特定领域。尽管距离实现全面商业化光刻应用仍需时间，该原型机的成功展示表明我国在极紫外光源研发与技术探索方面迈出了坚实的一步。