瑞银集团分析师预测，中国不太可能在未来十年内快速提升其半导体制造能力，以开发出ASML Holding NV尖端极紫外技术的可行替代品。

由Francois-Xavier Bouvignies领导的瑞银分析师在报告中写道：“他们似乎处于与ASML 2004年相似的阶段。”

北京一直在向国内芯片行业投入国家资本以实现自给自足。但其进展受到华盛顿主导的对尖端芯片制造设备出口限制的阻碍。

总部位于荷兰费尔德霍芬的ASML是制造先进半导体（包括英伟达公司所用芯片）所必需的高端光刻机的唯一制造商。这家芯片设备巨头被禁止向中国出售其极紫外光刻工具，而中国是其最大市场之一。

瑞银分析师引用专利活动，特别是围绕光源和激光子系统的专利，显示其成熟度与ASML开始大规模生产EUV工具前15年相当。

他们表示：“鉴于与ASML在良率和吞吐量方面可能存在的差距，以及监管限制，我们认为中国光刻工具不太可能在中国以外部署。”

尽管如此，瑞银预计中国将在两到五年内开发出浸没式深紫外光刻机的大规模生产能力。虽然不如EUV系统先进，但浸没式DUV机器对芯片制造仍然至关重要，它们利用光将复杂的电路图案打印到硅片上。

ASML的浸没式DUV机器定价接近9000万美元，而先进的EUV设备每台成本超过2亿美元。ASML发言人未回应置评请求。周二其股价在阿姆斯特丹持平。