据德国蔡司集团（Zeiss Group）的一位高管称，中国在开发尖端芯片制造工具方面落后了大约15年。蔡司集团是全球半导体行业的关键供应商。

领导蔡司半导体部门的弗兰克·罗蒙德（Frank Rohmund）在电视上表示，北京需要15年时间才能开发出极紫外（EUV）光刻机，这是一个“合理的假设”，同时他指出，中国的进展难以量化。

芯片制造技术是美国阻止中国获得顶级人工智能芯片的关键目标，因为这两个最大的经济体正在竞相开发尖端模型。美国禁止蔡司的股东ASML Holding NV向中国运送其最先进的机器，而北京正在向国内半导体行业投入资金，以求自给自足。

蔡司是ASML EUV机器所用光学器件的独家供应商，而这家荷兰公司是世界上唯一一家此类设备的制造商。EUV技术对于生产英伟达公司（Nvidia Corp.）人工智能加速器中使用的最先进芯片至关重要。

罗蒙德的估计是在瑞银（UBS）分析师（由Francois-Xavier Bouvignies领导）本周撰文称中国距离开发国产EUV技术可能至少还有十年之后得出的。

瑞银称，中国可能在未来十年内无法赶上ASML的顶级工具。中国是ASML上一代使用深紫外（DUV）技术的芯片制造机器的最大市场之一。美国还要求这家荷兰公司的几款更先进的浸没式DUV机型获得出口许可证。

罗蒙德表示，任何将出口管制扩大到包括传统DUV机器的计划都会对业务不利。他说：“我们不相信这些出口限制的积极影响，因为它加速了中国的创新。”

中国在制造浸没式DUV光刻工具方面取得了进展。据The Information在7月援引未具名的知情人士报道，一家总部位于上海的公司正在制造此类设备。

据罗蒙德称，北京几十年来一直在研究这项技术。他在谈到最近进展的报道时说：“这并不令人意外，现在我们需要看看这些工具的真正能力如何。”他补充说：“我们仍然遥遥领先。”

蔡司表示，其组件用于生产全球约80%的芯片。ASML于2017年以10亿欧元（12亿美元）收购了这家总部位于德国奥伯科亨（Oberkochen）的公司半导体部门的少数股权。

ASML供应商蔡司表示能够应对关键AI部件的需求。为了适应人工智能驱动的需求，蔡司扩大了其奥伯科亨总部以增加产量。它还在另一个地点建造一座工厂。