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佳能将推出寿命提升至20倍的光刻设备
佳能将面向平板显示器（FPD）的光刻设备，推出可把光源更换为发光二极管（LED）的选配组件。与传统水银光源机型相比，寿命达到原来的20倍，耗电量也降低10%以上。 该产品作为2022年上市的平板显示器光刻设备的付费选配功能推出。这类设备用于电视显示屏的生产制造，客户在新采购设备时，可以从水银灯、LED两种照明光源中进行选择。 相较于水银光源，LED的照度（亮度指标）提升40%以上，光源寿命从100
ASML推进High-NA EUV大尺寸掩膜方案 目标2033年量产并提升40%效率
ASML正与客户合作开发适用于下一代 High-NA EUV 光刻设备的更大尺寸掩膜版，这项调整有望让该系统更适合用于最大型的 AI 和数据中心芯片。 该公司表示，现有 EUV 设备可打印面积约达 800 平方毫米的芯片，已足以覆盖英伟达、Google等厂商面向先进数据中心硬件设计的处理器和加速器。 High-NA EUV 是 ASML 的下一代主力光刻平台，能够打印比现有 EUV 更精细的特征，
阿斯麦新一代EUV光刻机获得台积电和三星的使用承诺
阿斯麦获顶级芯片制造商承诺使用其最新半导体生产设备，并启动一项更广泛的协议，以满足对更强大AI科技的激增需求。三星电子和台积电计划加入英特尔的行列，分别为不晚于2028年和从2030年开始，采用这家荷兰公司的高数值孔径极紫外（EUV）光刻设备进行大规模生产。 该设备每台单价可达4亿美元。三星是领先的内存芯片制造商，台积电则是英伟达和苹果等一众公司的芯片代工领头羊。 这四家公司还就光罩技术规格的重要
日本自卫队将引进光通信技术
日本防卫省将在连接自卫队各部队与全国基地的通信网络中，引进NTT的下一代光通信基础设施IOWN。打造可高速共享海量数据的通信环境，为全面运用人工智能（AI）的“新型作战模式”做好准备。 相关内容将写入规定装备等引进计划的下一期防卫力量整备计划。在2027年度预算案中列入相关经费，朝着2028年度之后正式投入使用的方向，推进筹备工作。 IOWN是利用光学技术实现大容量、低延迟、低功耗的下一代信息通信
蔡司高管：中国15年内会造出EUV光刻机 制裁会把他们逼成“技术疯子”
ASML EUV光刻机光学元件独家供应商、德国蔡司集团半导体事业负责人Frank Rohmund近日接受采访时表示，中国要开发出EUV光刻机大约还需要15年。 他称这是一个合理的推测，同时也坦言中国在这方面的实际进展难以量化。 ASML是目前全球唯一能制造EUV光刻机的企业，而EUV技术是生产英伟达AI加速器等最先进芯片不可或缺的关键技术。技术本身越重要，掌握技术的话语权就越大。美国正是利用这一优
日本开发出世界最高耐久性钙钛矿电池
日本东芝与信越化学工业携手新潟大学，开发出耐久性能提升至先前产品1.5倍的下一代钙钛矿光伏电池。目前属于世界最高水平，力争在2030年代实现产品销售。将借助耐久性抗衡在该领域已积累量产技术的中国企业。 东芝负责发电部分，信越化学工业负责封装材料的制造。新潟大学开发了光伏电池的封装技术，提高了其耐久性。 此次开发的是由硅光伏电池和钙钛矿光伏电池结合而成的“串联型”，将作为高发电效率光伏电池实现商品化
苹果被曝正酝酿自iPhone X以来最大变革
作为iPhone诞生二十周年的纪念之作，苹果计划在2027年秋季推出被称为“iPhone 20”的全新旗舰机型。供应链及行业最新消息显示，该设备将迎来苹果自2017年推出十周年纪念款iPhone X以来最激进、最重大的外观与架构重构，其产品地位与颠覆程度有望全面复制当年的里程碑时刻，并重新确立未来数年智能手机的形态范式。 工业设计层面，新机最核心的突破在于彻底迈向“一整块无缝玻璃”的极简形态，被视